原标题:哈氏合金c一公斤276材料多少钱？

　　Hastelloy C-276产品概述

　　Hastelloy C-276是硅碳含量极低的耐腐蚀合金。耐湿氯、各种氧化氯、氯化盐溶液、硫酸和氧化盐在低温和中温盐酸中具有良好的耐腐蚀性。

　　上海叶钢提供镍基耐高温、耐腐蚀合金材料。

　　哈氏合金C276主要规格：

　　哈氏合金C276无缝管，哈氏合金C276钢板，哈氏合金C276圆钢，哈氏合金C276锻件，哈氏合金C276法兰，哈氏合金C哈氏合金276环C276焊管，哈氏合金C276钢带，哈氏合金C276直条，哈氏合金C276丝及配套焊料，哈氏合金C276圆饼，哈氏合金C扁钢，哈氏合金C二七六角棒，哈氏合金C276大小头，哈氏合金C276弯头，哈氏合金C2763通，哈氏合金C276加工件，哈氏合金C276螺栓螺母，哈氏合金C276紧固件。

　　确保询价准确合理，请务必提供以下技术要求：

　　1. 哈氏合金C276 交货状态：锻造、铸造、退火、固溶、及时性等；

　　2. 哈氏合金C276 外观状态:黑皮、车光、抛光、酸洗；

　　3. 哈氏合金C276 尺寸规格：公称尺寸、公差范围、尺寸、不定尺、标准尺寸；

　　4. 哈氏合金C276 质量标准：GB、HB、GJB、AMS、GB/T、ASTM、ASME、JIS、JS、DIN、EN其它；

　　5. 哈氏合金C276 产品分类：棒材| 管材| 带材| 丝材| 法兰| 板材| 环件| 圆饼|锻件|焊丝，可根据要求.

　　6. 哈氏合金C276 订货量；

　　7. 哈氏合金C276 交期。

　　科洛伊合金材料：

　　Incoloy 800/800H/800HT合金（N08800/N08810/N08811）

　　Incoloy 825合金（UNS N08825）

　　2科耐尔合金材料：

　　Inconel 625合金（UNS N06625）

　　Inconel 600/601合金（UNS N06600/N06601）

　　三、哈氏合金材料（Hastelloy）：

　　C-276合金（UNS N10276） B-2合金（UNS N10675） C-4合金（UNS N06455）

　　C-22合金（UNS N06022） C-2000合金（UNS N06200） X合金（UNS N06002）

　　四、高温合金材料：（GH）

　　GH1131 GH4169 GH4145 GH2132 GH2136 GH3030 GH3039 GH738 GH5188

　　5.耐腐蚀合金（NS）

　　NS111,NS112,NS113,NS131,NS141,NS142,NS143,NS311,NS314,NS315,NS321,NS322,NS331,

　　6.蒙乃尔合金（Monel）

　　Monel 400，Monel K-500/

　　7、精密合金：

　　1J50 1J79 1J85 4J29 4J32 4J33 4J36

　　8、纯镍：

　　N4 N6

　　九、司太立钴基合金：（Stellite）

　　Stellite1，Stellite6，Stellite6B，Stellite12，Stellite21，等材料；

　　Hastelloy C-276工艺性能及要求

　　热加工燃料中的硫含量越低越好，天然气中的硫含量应小于0.1%，重油中的硫含量应小于0.5%。

　　2.合金热加工温度范围为1200℃～950℃，冷却方式为水冷或快速空冷。

　　2.合金热加工温度范围为1200℃～950℃，冷却方式为水冷或快速空冷。

　　3.适用于钨电极惰性气体保护焊、等离子弧焊、手工亚弧焊、金属极惰性气体保护焊、熔化极惰性气体保护焊等传统焊接工艺。

　　Hastelloy C-276加工及热处理

　　1.Hastelloy C-276合金可通过传统生产工艺制造加工。

　　2.工件在热处理前和热处理过程中应始终保持清洁和无污染。

　　3.1000合金应充分考虑℃～600℃快速冷却时对敏化的敏感性。

　　4.热处理时不得接触硫、磷、铅等低熔点金属，否则会损害合金的性能。注意清除标记漆、温度指示漆、彩蜡笔、润滑油、燃料等污垢。

　　5.燃料中的硫含量越低越好，天然气中的硫含量应小于0.1%，重油中的硫含量应小于0.5%。

　　6. 加热炉中性至微氧化，应避免炉气在氧化和还原之间的波动。

　　Hastelloy C-276 热加工

　　1. hastelloyC-276热加工温度范围为1200℃～950℃，冷却方式为水冷或快速空冷。

　　2. 为保证最佳的防腐性能，热加工后应进行热处理，工件应直接加热炉。

　　Hastelloy C-276 冷加工

　　1.hastelloyc-276的加工硬化率大于奥氏体不锈钢，因此需要选择加工设备。冷轧过程中，工件应固溶热，中间退火。

　　2. 若冷轧变形大于15%，则需对工件进行二次固溶。

　　Hastelloy C-276热处理

　　1.hastelloyc-276固溶处理温度范围为1100℃～1160℃。

　　2. 冷却方法为水淬，厚度小于1.5mm 快速空冷也可用于材料。若为空冷，则为2 分钟内从1000℃冷却至600℃。

　　3. 热处理过程中必须保持工件清洁。

　　以下是硅基哈氏合金的溅射功率C276膜性能影响概述：

　　哈氏合金HastelloyC276是目前应用最广泛的耐腐蚀合金之一，具有硬度高、强度强、延展性好、耐点蚀化学性能优异等优点。广泛应用于化工、石油、烟气脱硫、纸浆、造纸、环保等行业。但哈氏合金成本高，限制了大规模应用，涂层技术的发展为哈氏合金的使用提供了新的思路。

　　它具有高速低温的特点。用磁控溅射法制备的哈氏合金膜能保持合金的原有特性，膜质好，与基体结合力强。对有效保护材料表面具有重要意义。

　　本文采用磁控溅射涂层法在硅片上沉积哈氏合金膜，研究溅射功率对膜沉积率、表面形状、化学成分、组合能力和硬度的影响，具有一定的工程应用价值。

　　制备哈氏合金膜的磁控溅射方法

　　采用JSD400一II型磁控溅射镀膜机在硅片上制备哈氏合金膜。目标尺寸为60×3mm，如表1所示。

　　试验前，基片用丙酮和无水乙醇清洗，氮气吹干。安装基板时，真空室内基板架上的夹板用于粘贴基板，制作测量膜厚的台阶。真空室内真空抽到9X10Pa，氩作为工作气体，通入纯度为99.99%，氩气流量控制在50%sccm，T作气压2Pa，溅射功率分别为40W，60W，80W，靶基距12．5cm，沉积时间1h，在室温下制备哈氏合金薄膜，在真空室冷却至室温后取出薄膜样品。

　　采用SU8020年扫描电子显微镜(SEM)、ESCALAB250Xix射线光电子能谱仪(XPS)、HV_.观察薄膜表面形状，分析膜的化学成分，测量膜的硬度和厚度。

　　2 、结果与讨论

　　2.溅射功率对沉积速率的影响

　　溅射功率分别为40W、60W、80W，溅射时问1h，在室温下制备哈氏合金膜，用台阶仪测量厚度，并计算膜的沉积速率，如表2所示。每个数据都是测量次数后的平均值，以确保数据的准确性。

　　从表中的数据可以看出，当溅射时间保持不变时，功率从40W提高到60W至80W，膜的厚度和沉积率相应增加。随着溅射功率的增加，丁提高了真空室内T气体的离化率，增加了进入颗粒的数量和能量，使更多的目标原子溅到基板上，导致沉积率的提高。

　　2.2、SEM观察表面形状

　　图1所示a，b，c分别为功率40W，60W，80W时薄膜的SEM图像的表面形状放大了8万倍，d溅射功率为40W时薄膜的SEM可以观察到，薄膜由纳米级均匀的球形颗粒组成，表面均匀光滑，结构致密。利用imageJ在软件统计图中，晶粒度均值为40W晶粒度为31.5nm，60W粒度为43.8nm，80W粒度为68.6nm，由于溅射功率较低，溅射原子的能量较低，粒度随溅射功率的增加而增加。到达片后，难以避免片面迁移，不易生长，粒度较小。

　　表面迁移牢度增加，颗粒尺度增加。然而，当表面迁移率较低时，晶粒分布不均匀，密度较低，如图1所示。

　　将溅射功率提高到60W，晶粒尺度分均匀。敏密度高。但是增加到80W之后，由于粒子能量过平，表面原子溅出，导致薄膜表面缺乏增加。与此同时，随着功率的增加，当功率增加时，表面开始出现小裂纹Ar离开的能量增加。溅射的目标原子能量增加，目标原子的速度撞击薄膜表面，导致表面应力增加和小裂纹。

　　2.溅射功率对薄膜化学成分的影响

　　使用x光电子能谱(XPS)如表3所示Ni、Fe含量高于靶材Mo由于不同元素的溅射率不同，W的含量较低。一般而言，溅射率随靶元素原子序数的增加而增加，并呈周期性变化。当入射粒子能量相同时，Mo与W的溅射速率相比Ni，Cr，Fe因此，在磁控溅射法制备的薄膜中MoW的含量相对较少。随溅射功率在膜中的增加Ni比例下降，Cr、Fe、Mo、W比例上升。

　　结果见表4。

　　式中A0j靶材中各种元素的含量，A是薄膜中各种元素的含量。

　　从表4可以看出，随着溅射功率的增加，膜与靶材的成分差异逐渐减小，溅射功率为80W接近哈氏合金靶材有利于薄膜的化学成分。

　　2.4.溅射功率会影响组合XPS分析

　　x射线光电子能谱实验(XPS)分析了哈氏合金膜表面的化学成分，图2显示了不同的溅射功率Ni、Cr、Fe、Mo的XPS谱图，金属元素W因含量低而得到XPS这里不分析谱图信号弱。由XPS谱图显示，随着溅射功率的增加，其变化不明显，可能会受到测量误差的影响。Ni组合可位于854.1eV左右，金属Ni标准组合可能会有很大的差异，并伴随着明显的卫星峰，表明其化学状态发生了变化。因为金属Ni易氧化，在分析测试前接触空气，在表面形成氧化态Ni，因此XPS测得的Ni结合能偏高。

　　Cr、Fe、Mo可分别位于574.7eV、707．5eV、228．4eV由于轨道自旋的影响，光电子谱线的能级裂分有两个谱峰。比较标准结合能手册，Cr、Fe、Mo金属状态有三种元素。

　　2.5.显微硬度分析

　　用维氏硬度计测量薄膜的硬度

　　受薄膜厚度的限制，过度施加力容易造成薄膜损伤，测量结果不准确，所以仪器测量时应用10g力，保压时间10s～15s。为保证实验结果的准确性，每组参数测量两个样品，每个样品表面随机选择5个点进行测量，得到硬度值后取平均值。表5是膜在不同功率下的硬度，溅射功率为40W升高至60W当膜硬度增加时，溅射量继续增加到80W当时膜硬度降低。溅射功率增加时，溅射颗粒以更快的速度轰击膜表面，增加迁移率，使膜晶粒尺寸均匀，结构更致密，硬度增加。然而，溅射功率继续增加，膜表面的原子被溅出，导致膜表面缺陷增加，应力增加，硬度降低。

　　3 结论

　　硅基哈氏合金膜采用磁控溅射法制备，室温下沉积时间相同。随着溅射功率的增加，膜的沉积率和厚度增加，颗粒尺度增加，由于应力的增加，膜表面出现小裂纹。因此，膜的硬度变化呈先增后减的趋势，溅射功率为60W硬度最高。硅基哈氏合金膜表面均匀光滑，结构致密。除易氧化金属外，除易氧化金属外，变化明显Ni此外，金属状态中还有其他金属元素。溅射功率为80W有利于薄膜的化学成分更接近哈氏合金靶材。

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